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本設備為射頻磁控濺射鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用，也可實驗室SEM樣品制備。本型號配備射頻電源，尤其適合非金屬或其他非導電材料鍍膜。
本套配置采用高真空不銹鋼腔體，腔體設置帶擋板的石英觀察窗，便于實驗的觀察記錄；腔體設計真空性能優良，造型小巧，十分適合實驗室使用。同時設備配有旋轉加熱樣品臺，可以有效提高薄膜的均勻性和成膜的質量。整機采用模塊化設計，操作邏輯簡單，操作界面直觀，利于上手。
射頻磁控濺射鍍膜儀技術參數：
產品名稱
桌面型射頻磁控濺射鍍膜儀
產品型號
CY-MSZ180-I-RF-SS
樣品臺
外形尺寸
φ100mm
加熱溫度
≦500℃
可調轉速
≦20rpm
磁控靶槍
配一支兩英寸磁控靶，靶材尺寸:直徑50.8mm，厚度≦3mm
真空腔體
腔體尺寸
φ180mm X
215mm
觀察窗口
全向透明
腔體材料
SUU304不銹鋼
開啟方式
上蓋拆卸式
真空系統
前級泵
低噪音雙極旋片泵
分子泵
低噪音大抽速渦輪分子泵
真空測量
復合真空計，量程:10-5~105Pa
抽氣接口
KF16
抽氣接口
KF40
排氣接口
KF16
系統真空
1.0×10-4Pa
供電電源
AC 220V 50/60Hz
抽氣速率
分子泵抽速600L/s，前級泵抽速1.1L/s
電源配置
電源數量
射頻電源一套
輸出功率
300W
其他參數
供電電壓
AC220V,50Hz
整機功率
2kW
整機尺寸
600mm×650mm×750mm
