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大功率直流磁控濺射鍍膜儀產品內容：
大功率直流磁控濺射鍍膜儀包含一個2英寸水冷靶頭和可旋轉樣品臺。水冷靶頭使鍍膜后的樣品表面不會因鍍膜溫度過高而變形，甚至損壞樣品；樣品臺可旋轉，可以使樣品邊旋轉邊鍍膜使鍍膜后的樣品表面膜后均勻。設備外形小巧，性價比高，是制作各種金屬薄膜理想的鍍膜設備，可選配各種金屬靶材和真空泵搭配設備使用。
大功率直流磁控濺射鍍膜儀技術規格：
項目
明細
產品型號
CY-MSH325- I-DC-SS
供電電壓
AC220V，50Hz
整機功率
4KW
系統真空
≦5×10-4Pa
樣品臺
外形尺寸
φ150mm
加熱溫度
≦500℃
控溫精度
±1℃
可調轉速
≦20rpm
磁控靶槍
靶材尺寸
直徑Φ50.8mm，厚度≦3mm
冷卻模式
循環水冷
水流大小
不小于10L/Min
真空腔體
腔體尺寸
直徑φ325mm，高度500mm
腔體材質
SUU304不銹鋼
觀察窗口
直徑φ100mm
開啟方式
頂開式
氣體控制
1路質量流量計用于控制Ar流量，量程為:200SCCM
真空系統
配分子泵系統1套，氣體抽速600L/S
膜厚測量
可選配石英晶體膜厚儀，分辨率0.10 ?
濺射電源
直流電源500W
控制系統
CYKY自研專業級控制系統
設備尺寸
600mm
× 650mm × 1280mm
設備重量
350kg
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