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本單靶磁控濺射鍍膜儀配有一套磁控靶、一套300W的RF濺射電源(或一套500W的直流濺射電源或一套100W的偏壓電源）。鍍膜時，可根據需要分別手工連接至直流濺射電源、偏壓電源及RF濺射電源。還可根據客戶需要配置可旋轉樣品臺、加熱型樣品臺、多功能樣品臺，整機性價比高，是制作各種金屬（或非金屬）薄膜理想的鍍膜設備，可選配各種金屬靶材和真空系統。
技術參數
項目
明細
產品型號
CY-MSH270-I-RF-Q
供電電壓
AC220V，50Hz
整機功率
3KW
系統真空
≦5×10-4Pa
樣品臺
尺寸
150mm
加熱溫度
≤500℃
旋轉速度
1-20r/min
控溫精度
±1℃
磁控濺射頭
數量
2英寸 x1
冷卻方式
水冷
真空腔體
腔體尺寸
φ270mm X 200mm
觀察窗口
全向可視
開啟方式
頂蓋拆卸式
腔體材料
高純石英
真空系統
機械泵
CY240
抽氣接口
KF16
抽氣速率
1.1L/s
分子泵
CY600
抽氣接口
KF40
抽氣速率
600L/s
排氣接口
KF40
真空測量
電阻規+電離規
供電電源
AC;220V 50/60Hz
氣體控制
1路質量流量計用于控制Ar流量，量程為:200SCCM
膜厚測量
可選配石英晶體膜厚儀，分辨率0.10 ?
控制系統
CYKY自研專業級控制系統
電源配置
直流電源數量
1臺
輸出功率
≤500W
輸出電壓
≤600V
響應時間
＜5ms
射頻電源數量
1臺
輸出功率
≤1000W
功率穩定度
≤5W
測量精度
±0.5%
測量速度
100~1000ms
測量上限
50000
1、有時為了達到理想的薄膜厚度，需要多次濺射鍍膜。在濺射鍍膜前，確保濺射頭、靶材、基片和樣品臺的潔凈要達到薄膜與基底良好結合，請在濺射前用超聲波清洗基材表面。
2、基材清洗方式
（1）丙酮超聲清洗→異丙醇超聲清洗去除油脂→吹氮氣干燥→真空烘箱除去水分
（2）等離子清洗：可表面粗糙化，可激活表面化學鍵，可祛除額外的污染物制造一個薄的緩沖層（5納米左右）：如Gr，Ti，Mo，Ta，可以應用于改善金屬和合金的附著力此濺射鍍膜機可以放入Ar或N2氣體手套箱中濺射。
