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雙靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價(jià)比磁控濺射鍍膜設(shè)備，具有標(biāo)準(zhǔn)化、模塊化、可定制化的特點(diǎn)。磁控靶有1英寸2英寸可以選擇，客戶可以根據(jù)所鍍基板的大小自主選購；所配電源為300W射頻電源加500W直流電源，直流電源可用于金屬薄膜的制備，射頻電源可用于非金屬膜的制備，兩個靶可以滿足多層或者多次鍍膜的需要。若客戶有其他鍍膜需要，可以定制直流電源和脈沖電源，各型電源均有300W到1000W多種規(guī)格可選。
鍍膜儀具有兩路高精度質(zhì)量流量計(jì)，客戶若另有需求可以定制至多四路質(zhì)量流量計(jì)的氣路，以滿足復(fù)雜的氣體環(huán)境構(gòu)建需求；儀器標(biāo)配先進(jìn)的渦輪分子泵組，極限真空可達(dá)1.0E-5Pa，同時(shí)另有其他類型的分子泵可供選購。
另外本型號配置配有兩個高精度膜厚儀，能夠滿足鍍膜過程中膜厚檢測需要，若客戶有需要安裝多個膜厚儀的需要也可以和我公司技術(shù)人員進(jìn)行定制。
本產(chǎn)品可以選配一體機(jī)工控電腦對系統(tǒng)進(jìn)行控制，在電腦程序上可以實(shí)現(xiàn)真空泵組的控制、濺射電源的控制等絕大多數(shù)功能，可以進(jìn)一步提高您的實(shí)驗(yàn)效率。
雙靶磁控濺射鍍膜儀適用范圍：
該設(shè)備可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備。
雙靶磁控濺射鍍膜儀技術(shù)參數(shù)：
項(xiàng)目
明細(xì)
產(chǎn)品型號
CY-MSV325- II-DCRF-SS
供電電壓
AC220V，50Hz
整機(jī)功率
2.5KW
系統(tǒng)真空
≦5×10-4Pa
樣品臺
外形尺寸
φ150mm
加熱溫度
≦500℃
控溫精度
±1℃
可調(diào)轉(zhuǎn)速
≦20rpm
磁控靶槍
靶材尺寸
直徑Φ50.8mm，厚度≦3mm
冷卻模式
循環(huán)水冷
水流大小
不小于10L/Min
真空腔體
腔體尺寸
直徑φ325mm，高度500mm
腔體材質(zhì)
SUU304不銹鋼
觀察窗口
直徑φ100mm
開啟方式
頂開式
氣體控制
1路質(zhì)量流量計(jì)用于控制Ar流量，量程為:200SCCM
真空系統(tǒng)
配分子泵系統(tǒng)1套，氣體抽速600L/S
膜厚測量
可選配石英晶體膜厚儀，分辨率0.10 ?
濺射電源
配射頻電源500W 直流電源500W
控制系統(tǒng)
CYKY自研專業(yè)級控制系統(tǒng)
設(shè)備尺寸
600mm
× 650mm × 1280mm
設(shè)備重量
350kg
