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產(chǎn)品分類

產(chǎn)品詳情

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產(chǎn)品名稱：桌面型有機(jī)源蒸發(fā)鍍膜儀
產(chǎn)品型號(hào)：CY-EVZ254-I-H-SS
產(chǎn)品廠商：成越科儀
產(chǎn)品文檔：

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簡(jiǎn)單介紹：

熱蒸發(fā)鍍膜儀的物理過(guò)程主要包括材料的蒸發(fā)、氣態(tài)粒子的輸運(yùn)以及在基底上的沉積成膜。在蒸發(fā)過(guò)程中，材料需要獲得足夠的熱能以克服分子間的結(jié)合能，從而轉(zhuǎn)變?yōu)闅鈶B(tài)分子并從蒸發(fā)源表面逸出。這些氣態(tài)粒子在輸運(yùn)過(guò)程中基本上無(wú)碰撞地直線飛行到基底表面，并在那里凝聚形核生長(zhǎng)成固相薄膜

詳情介紹：

本產(chǎn)品為專為高真空設(shè)計(jì)的桌面型小型蒸發(fā)鍍膜儀，可提供*大100A的鍍膜電流，*大蒸發(fā)溫度可達(dá)1800℃，能夠滿足各種常見(jiàn)金屬的蒸鍍及部分非金屬蒸鍍。真空腔體采用不不銹鋼制作，出廠經(jīng)過(guò)除氣處理，配合分子泵組可達(dá)到5x10-5Pa極限真空，能夠滿足絕大部分材料蒸發(fā)所需的真空環(huán)境。真空腔體采用前開(kāi)門開(kāi)啟方式，便于取放樣，腔體上配置有帶擋板的適應(yīng)觀察窗，用于觀察鍍膜過(guò)程，擋板則可以有效防止觀察窗被膜料污染.

蒸發(fā)鍍膜儀產(chǎn)品特點(diǎn)：

高純度薄膜：由于在高真空條件下進(jìn)行，減少了氣體分子與蒸發(fā)材料的碰撞，從而能夠制備出高純度的薄膜。
**控制：蒸發(fā)鍍膜技術(shù)允許對(duì)薄膜的厚度、成分和結(jié)構(gòu)進(jìn)行**控制，這在許多高精度應(yīng)用中至關(guān)重要。
適用多種材料：蒸發(fā)鍍膜技術(shù)可以用于多種材料，包括金屬、合金、氧化物、碳化物、氮化物以及有機(jī)材料等。
高沉積速率：特別是使用電子束蒸發(fā)時(shí)，由于高能量的電子束能夠快速加熱材料，可以實(shí)現(xiàn)高沉積速率。
均勻性：通過(guò)適當(dāng)?shù)墓に噮?shù)調(diào)整，可以在大面積基底上獲得均勻的薄膜。
低損傷：由于加熱主要集中在蒸發(fā)材料上，對(duì)基底的熱影響較小，適用于熱敏材料的薄膜沉積。

蒸發(fā)鍍膜儀技術(shù)對(duì)數(shù)：

參數(shù)名稱	參數(shù)說(shuō)明
產(chǎn)品名稱	桌面型有機(jī)源蒸發(fā)鍍膜儀
產(chǎn)品型號(hào)	CY-EVZ254-I-H-SS
真空腔體	腔體材質(zhì)	304不銹鋼焊接而成，表面做拋光處理
	取放模式	前開(kāi)門方式取放樣品和蒸鍍材料
	觀察窗	直徑80mm真空窗口，配有磁力擋板，防止污染
樣品臺(tái)	樣品尺寸	直徑≦100mm的平面樣品均可
	旋轉(zhuǎn)速度	分不旋轉(zhuǎn)和旋轉(zhuǎn)型（0-20RPM）
	加熱溫度	≦1800℃
蒸發(fā)系統(tǒng)	蒸發(fā)源	鎢絲籃或塢舟 1個(gè)
	樣品臺(tái)蒸發(fā)源距離	60-100mm 可調(diào)
	鍍膜方式	熱蒸發(fā)鍍膜
真空系統(tǒng)	抽氣接口：KF25/40, 排氣接口： KF16
	復(fù)合真空計(jì)，電阻規(guī)+電離規(guī)
	前級(jí)泵	旋片泵抽速： 1.1L/S
	分子泵	抽速： 62L/S (大阪分子泵)
膜厚測(cè)量	通常配CYKY膜厚測(cè)量?jī)x （可選）
	也可選配進(jìn)口品牌，價(jià)格額外計(jì)算
供電電壓	AC220V,50Hz
整機(jī)功率	2KW
外形尺寸	750mm X 450mm X750mm
包裝重量	70 KG