- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設(shè)備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗設(shè)備
- 實驗室產(chǎn)品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
高通量超聲波熱解噴涂是通過在加熱的表面上噴涂溶液來沉積薄膜的過程，在該表面上，成分發(fā)生反應(yīng)以形成化合物。 該方法對于氧化物的沉積特別有用，并且長期以來是用于將氧化錫（SnO2）或氧化錫的透明電導(dǎo)體施加到玻璃基板上的生產(chǎn)方法。 現(xiàn)在，該技術(shù)越來越多地用于制備鈣鈦礦薄膜和電池電極。
CY-SP-04-HT是一種高通量噴霧熱解系統(tǒng)，它攜帶三種類型的溶液，并按編程直徑*大18 mm涂覆不同的組合物組合。 基板多達(dá)36個位置。 涂層室是可抽真空的，允許在受控氣氛下進行噴霧裂解。 這是一種智能設(shè)備，可以更快地探索新一代材料，用于電池電極和鈣鈦礦太陽能電池。
高通量超聲波熱解噴涂技術(shù)參數(shù)：
|
輸入電壓 |
208 - 240V, 50/60Hz , 單相 總功率：3000W |
|
噴 嘴 |
包括兩個噴嘴 壓縮空氣噴嘴，用于厚膜涂層 具有30W 50Khz發(fā)生器的超聲波噴頭，溶液粘度<30 cps。 |
|
注射泵 |
包括四個注射泵。 三種用于混合和涂布溶液，一種用于清洗D水。 標(biāo)準(zhǔn)注射器容量：60 ml（其他容量可選） 線速度范圍：1 μm / min --- 120 mm / min可調(diào)（流速=線速度x注射器中的橫截面積） 精度：≦±0.5％（當(dāng)> 30％FS時） 控制：注射泵由數(shù)字控制面板或主觸摸屏控制面板控制。 |
|
溶液混合 |
噴涂前，將三種溶液混合并分散在小容器中。 容器尺寸：Φ25x100mmH（?50ml） 葉片攪拌速度：120 RPM |
|
可加熱真空室 |
腔室由不銹鋼制成 箱體尺寸：650 x 600 x 500mm *大限度。 真空極限：包括機械泵的20托，包括 通過30段可編程控制器在+/- 10°C下進行溫度控制. |
|
處理平臺 |
精密的X-Y-Z行程機構(gòu)內(nèi)置在真空室內(nèi)，它將攜帶噴嘴到所需位置以進行局部涂覆。 移動距離:( X-Y軸）*大200毫米Z軸：*大60毫米 行駛速度：1mm / s-12mm / s 一組帶有36個圓柱面罩的基板安裝在腔室的底部。 標(biāo)準(zhǔn)圓柱面罩尺寸：直徑18毫米。 其他尺寸可根據(jù)要求提供。 加熱板安裝在基板的底部以進行熱解處理。 溫度范圍：RT-*大500oC。 （<30分鐘） 溫度均勻度：≤±5℃ |
|
控制按鈕 |
7“觸摸屏控制面板安裝在腔室的前部，可對所有噴涂參數(shù)進行編程和控制。 真空時間和惰性氣體吹掃時間是可編程的。 在三個注射器泵中到每個氣缸面罩的流量和噴涂時間可編程，以形成不同的成分，并自動進行36位噴涂。 可以在控制面板中存儲128個配方，以自動實現(xiàn)一鍵式操作。 可以使用手動操作模式來實現(xiàn)點對點涂層。 |
|
尺寸 |
1100L x 730W x 1500 H, mm |
|
重量 |
大約1000 公斤 |
|
注意 |
一年有限保修，提供終身支持（可在購買前進行演示） |
