- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設(shè)備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗設(shè)備
- 實驗室產(chǎn)品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
真空噴霧熱解涂膜機包含一個軟件，用于噴頭移動和分配速率的自動化。 由步進(jìn)電機控制的正排量泵用于根據(jù)需要分配溶液。 噴頭在基板上噴射精細(xì)的霧化溶液，其運動由步進(jìn)電機驅(qū)動的線性平臺在X和Y方向控制，以確保均勻涂層。 可以通過改變噴嘴處的壓縮氣體壓力來調(diào)節(jié)噴霧模式和速度。
噴霧熱解是通過在加熱的表面上噴射溶液來沉積薄膜的過程，其中組分反應(yīng)形成化合物。該方法對于氧化物的沉積特別有用，并且長期以來一直是將氧化錫（SnO2）或氧化錫的透明導(dǎo)電體施加到玻璃基板上的制造方法。現(xiàn)在，這種技術(shù)越來越多地用于制備鈣鈦礦薄膜，例如鈣鈦礦太陽能電池。
真空噴霧熱解涂膜機技術(shù)參數(shù)：
項目
明細(xì)
供電電壓
AC220V，50Hz
噴涂室
690mm X 690mm X 790mm
霧化頭
高壓空氣霧化噴頭X 3
每個噴頭均配有高壓氣體驅(qū)動擋板，防止滴落
壓力調(diào)節(jié)器
可調(diào)節(jié)壓縮空氣進(jìn)氣
*大功率
3.5KW （含壓縮機+蠕動泵約0.5KW）
液體粘度
1-50mPa·s（cP）
噴頭行程
X-Y軸 *大180mm
移動速度
0-250mm/s （x軸方向） 0-250mm/s（Y軸方向）
加熱襯底基板
200mm X 200mm
*高溫度
500℃
控溫方式
AI-PID 控溫
滴涂罐容量
50mL/250mL/50mL
蠕動泵分液速率
0.006-41mL/min
真空泵
雙極旋片真空泵
真空計
機械式真空計
極限真空度
≤5000Pa
操控方式
工控電腦+儀器面板
整機尺寸
900mm X 900mm X 1750mm
免責(zé)聲明：本站產(chǎn)品介紹內(nèi)容(包括產(chǎn)品圖片、產(chǎn)品描述、技術(shù)參數(shù)等)，僅供參考。可能由于更新不及時，會造成所述內(nèi)容與實際情況存在一定的差異，請與本公司銷售人員聯(lián)系確認(rèn)。本站提供的信息不構(gòu)成任何要約或承諾，本公司會不定期完善和修改網(wǎng)站任何信息，恕不另行通知，請您見諒。
