- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設(shè)備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗設(shè)備
- 實驗室產(chǎn)品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
等離子濺射和蒸發(fā)二合一鍍膜儀配備了直流濺射靶和熱蒸發(fā)組件，不但可以用于等離子濺射方式鍍金屬膜，也可以用蒸發(fā)的方式得到碳或者其他金屬單質(zhì)的薄膜。為了提高鍍膜質(zhì)量，本臺二合一鍍膜儀采用的不銹鋼真空腔體配合精密分子泵的高真空設(shè)計，較高的真空度能夠有效的提升鍍膜純凈度和均勻度，有利于得到更好的實驗效果。樣品臺有旋轉(zhuǎn)和加熱功能，能夠提高薄膜的附著力和成膜的均勻度。本儀器體積小，節(jié)省空間，能夠置于試驗臺上使用，非常適合各大高校及研究機構(gòu)選用。
小型高真空二合一鍍膜儀適用范圍：
掃描電鏡樣品表面噴金、蒸金噴碳等操作，以及非導(dǎo)體材料試驗電極的制作等。
小型高真空二合一鍍膜儀技術(shù)參數(shù)：
|
小型高真空二合一鍍膜儀 |
||||
|
樣品臺 |
尺寸 |
φ138mm |
控溫精度 |
±1℃ |
|
加熱溫度 |
*高500℃ |
轉(zhuǎn)速 |
1-20rpm可調(diào) |
|
|
直流濺射頭 |
數(shù)量 |
2”×1 |
|
|
|
蒸發(fā)系統(tǒng) |
蒸發(fā)源 |
鎢絲籃 |
*高溫度 |
1700℃ |
|
熱電偶 |
S型熱電偶 |
|
|
|
|
真空腔體 |
腔體尺寸 |
φ170mm×200mm |
觀察窗口 |
石英觀察窗 φ70 |
|
腔體材料 |
不銹鋼 |
開啟方式 |
上開啟式 |
|
|
真空系統(tǒng) |
產(chǎn)品型號 |
CY-GZK103-A |
抽氣接口 |
KF40 |
|
分子泵 |
CY-600 |
排氣接口 |
KF16 |
|
|
前極泵 |
旋片泵 |
真空測量 |
復(fù)合真空計 |
|
|
極限真空 |
1.0E-5Pa |
|||
|
抽氣速率 |
分子泵：600L/S 旋片泵：1.1L/S 綜合抽氣性能：20分鐘真空度可達(dá)： 1.0E-3Pa |
|||
|
濺射電源配置 |
數(shù)量 |
直流電源×1 |
Max 輸出功率 |
150w |
|
其他 |
供電電壓 |
AC220V,50Hz |
整機尺寸 |
600mm×300mm×470mm |
|
整機功率 |
1.5kw |
整機重量 |
40kg |
|
免責(zé)聲明：本站產(chǎn)品介紹內(nèi)容(包括產(chǎn)品圖片、產(chǎn)品描述、技術(shù)參數(shù)等)，僅供參考?？赡苡捎诟虏患皶r，會造成所述內(nèi)容與實際情況存在一定的差異，請與本公司銷售人員聯(lián)系確認(rèn)。本站提供的信息不構(gòu)成任何要約或承諾，本公司會不定期完善和修改網(wǎng)站任何信息，恕不另行通知，請您見諒。
