產品分類
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- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環境模擬試驗設備
- 實驗室產品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產品
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1700單溫區φ60真... 1700℃單溫區φ60真空管式爐可以用于抽真空和通氣氛，所以又叫真空管式爐和氣氛管式爐還叫CVD管式爐和實驗管式爐，廣泛...
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1700單溫區φ80管... 1700單溫區φ80管式爐可以用于抽真空和通氣氛，所以又叫真空管式爐和氣氛管式爐還叫CVD管式爐和實驗管式爐，廣泛用于各...
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1500單溫區φ50真... 該管式爐可以用于抽真空和通氣氛，所以又叫真空管式爐和氣氛管式爐還叫CVD管式爐和實驗管式爐，廣泛用于各種反應溫度較高的C...
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1500℃單溫區φ60... 成越1500℃單溫區φ60管式爐可以用于抽真空和通氣氛，所以又叫真空管式爐和氣氛管式爐還叫CVD管式爐和實驗管式爐，廣泛...
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1500℃單溫區φ80... 該管式爐可以用于抽真空和通氣氛，所以又叫真空管式爐和氣氛管式爐還叫CVD管式爐和實驗管式爐，廣泛用于各種反應溫度較高的C...
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小型旋轉管式爐 單溫區旋轉管式爐，可實現在氣氛保護的環境下對粉末材料用CVD方法進行包裹和修飾。設備采用摩擦傳動，無需額外固定，爐管拆卸...
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雙溫區滑動旋轉管式爐 雙溫區滑動旋轉管式爐通過機械傳動控制工作管能360°不間斷旋轉，爐體在支架上能夠前后滑動，可以實現快速升降溫，雙溫區滑動...
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200mm大管徑回轉窯... 200mm大管徑回轉窯爐配有投料機構和旋轉機構，能夠保證反應連續均勻的發生，200mm大管徑回轉窯爐廣泛應用于鋰電池材料...
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自動進料旋轉管式爐 該款管式爐CY-O1200-R100IT-AF為帶有自動進料和收集設備的可旋轉管式爐，采用雙層風冷結構，爐體表面溫度≤6...
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1200℃三溫區旋轉管... 1200℃三溫區旋轉管式爐，采用高純石英制作變徑石英管，專為粉末處理設計。旋轉裝置采用摩擦傳動，傾角（0-15°）任意可...
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1600雙溫區真空旋轉... 鄭州成越科儀真空旋轉管式爐采用7英寸液晶屏做控制系統，具有簡單易學，操作方便，智能化程度高。鄭州成越科儀真空旋轉管式爐主...
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1200℃單溫區旋轉管... 1200℃開啟式單溫區旋轉管式爐，采用高純石英制作爐管。旋轉裝置為半導體致冷法蘭，摩擦傳動，傾角（0~15°）任意可調。...
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1200℃雙溫區旋轉管... 1200℃開啟式雙溫區旋轉管式爐，采用高純石英制作爐管。旋轉裝置為半導體致冷法蘭，摩擦傳動，傾角（0~15°）任意可調。...
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1200℃三溫區旋轉管... 1200℃開啟式雙溫區旋轉管式爐，采用高純石英制作爐管。旋轉裝置為半導體致冷法蘭，摩擦傳動，傾角（0~15°）任意可調。...
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PECVD化學氣相沉積... PECVD化學氣相沉積系統采用等離子體增強型化學氣相沉積技術，能夠利用高能量等離子體促進反應過程，有效提升反應速度，降低...
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PEALD等離子增強原... 等離子增強原子層沉積（PEALD）系統是一種先進的薄膜沉積技術，結合了等離子體和原子層沉積（ALD）的優點，以實現更高的...
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等離子增強化學氣相沉積... 化學氣相沉積采用等離子體增強型化學氣相沉積技術，基本溫度低，沉積速率快，在光學玻璃、硅、石英以及不銹鋼等不同襯底材料上沉...
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等離子體增強型化學氣相... 化學氣相沉積采用等離子體增強型化學氣相沉積技術，能夠利用高能量等離子體促進反應過程，有效提升反應速度，降低反應溫度。適用...
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CVD化學氣相沉積系統 CVD氣相沉積系統廣泛應用于材料科學和工程領域，用于制備各種功能性薄膜，如金屬薄膜、氧化物薄膜、氮化物薄膜、碳納米管等。...
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PECVD氣相沉積 PECVD氣相沉積在超大規模集成電路、光電器件、MEMS等領域具有廣泛的應用
