- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設(shè)備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗設(shè)備
- 實驗室產(chǎn)品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
主要技術(shù)指標
1、箱體
1.1．尺寸：1200mm（長）×900mm（高）×1000mm（寬）
1.2．材質(zhì)：全不銹鋼結(jié)構(gòu)﹝Type 304﹞， 厚度3mm
1.3．過濾器：孔徑3微米
1.4．手套：手套口8英寸，厚度0.4mm丁基〔butyl〕手套，硬鋁合金手套口（經(jīng)過防腐蝕處理，陽極氧化鋁）,口徑220mm。
1.5．窗口：傾斜設(shè)計的操作面，可拆卸的8mm**鋼化玻璃前窗，耐磨、抗腐蝕、透光性好、密封圈采用3/8英寸厚的OMEGA密封圈
1.6．使用時可保持一定的正負壓力（-10mbar～10mbar）
1.7．箱體配置有防反射的照明節(jié)能燈，光線柔和。
1.8．箱體內(nèi)設(shè)有陳列板雙層
1.9．箱體內(nèi)設(shè)有多孔電源接線板（電源：220V±10% 50Hz±10%）
2、過渡艙
2.1．形狀：圓柱形（304不銹鋼），與手套箱連接，采用閥門控制
2.2．尺寸：直徑360mm，長600mm大過渡艙，活塞門，過渡艙內(nèi)有可滑動托盤，拋光，自動閥門控制抽氣和補氣。箱體另設(shè)置一小過渡艙，規(guī)格為：直徑150mm，長300mm，手動 閥門控制抽氣和補氣。
2.3．托盤：不銹鋼300mm×450mm，可自由移動延伸(大過度艙配置)
2.4．真空度≤1bar(大、小右過度艙均要求抽真空帶顯示)
3、控制系統(tǒng)
3.1．方式：包括自診斷、斷電自啟動特性，具備壓力控制和自適應(yīng)功能。自動控制、循環(huán)控制、密碼保護、真空室控制采用LCD顯示。單元控制采用西門子PLC觸摸屏。
3.2．壓力控制：控制箱體、過渡艙的壓力在某一設(shè)定值。
3.3．腳踏板：可控制手套箱的壓力、方便操作。
