- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉管式爐
- PECVD氣相沉積系統
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區域提純爐
- 微波燒結爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環境模擬試驗設備
- 實驗室產品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產品
壁掛式露點分析儀廣泛應用于石油化工、天然氣、工業用氣體、半導體、干燥工業、食品工業、電力、機械制造、空分、制藥等行業氣體水份在線測量。
壁掛式露點分析儀功能特點：
數據自動存儲功能，記錄間隔時間可在1min~24h 的范圍內自由設定，可任意設定報警點；
可與計算機實現單向或雙向通訊；
擁有非常長的校準周期，典型值為兩年；
可增加氣體反吹裝置（可選），避免長時間過濾器被污染影響氧濃度測量；
內置進口抽氣泵（可選）。
壁掛式露點分析儀技術參數：
|
測量原理 |
薄膜電容 |
|
顯示方式 |
128×64點陣LCD |
|
測量范圍 |
基本型：-60~ +20℃ 標準型：-80~ +20℃ 擴充型：-100~ +20℃ |
|
測量精度 |
≤±1℃(0~ -60℃) ≤±2℃(-60℃以下) |
|
|
|
|
分辨率 |
0.1℃ |
|
響應時間 |
-40→-10℃5s(10s) -10→-40℃15s(240s) |
|
重 復 性 |
≤±1.5℃ |
|
模擬輸出 |
4-20mA.DC（非隔離輸出，負載電阻小于500歐姆） 0-5V.DC（非隔離輸出，負載電阻大于10K歐姆） 1路可編程干觸點型無源報警輸出,觸點*大容量220VAC/2A |
|
其它輸出 |
RS232（默認）或RS485 |
|
供電電源 |
AC170~ 265V 50/60Hz |
|
工作溫度 |
-10~ +50℃ |
|
采樣方式 |
通入式或抽取式 |
|
樣氣流量 |
2~ 4L/min |
|
樣氣壓力（無泵） |
0.05MPa≤入口表壓≤0.35MPa |
|
樣氣壓力（有泵） |
微正壓、微負壓或常壓 |
|
背景氣體 |
H2、He、惰性氣體、碳氫化合物等混合氣體 |
|
規格尺寸 |
400mm×300mm×200mm（H×W×D） |
|
使用壽命 |
＞4年（正常使用條件下） |
|
氣路接口 |
NPT 1/8內螺紋 |
|
安裝方式 |
壁掛式 |
